VIA MECH

ビアメカニクス株式会社

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製品・ソリューション

DE-UH シリーズ

圧倒的な解像力を有する描画装置

DE-UH シリーズ

オリジナル光源と高精度光学系の更なる改善により、均一な微小ビームの照射、シャープなエネルギ配給を実現。自社製搬送装置、コントローラ類をビルトイン、マスク露光機とほぼ同一スペース。

  • 露光方式

    ダイレクト露光

  • L/S

    8 /8 um

  • PC/Motherboard
  • HDI
  • BGA
  • CSP
  • FC-BGA
  • Package
  • 仕 様
  • 特 長
  • 基板サイズ 510×610mm
    板厚 0.1~2.0mm
    露光光源 波長405nm
    8W/エンジン
  • 解像性

    独自の光学系技術により、業界トップクラスの解像性(L/S=8/8um)を実現しました。

    合せ精度

    高精度スキャンテーブル、高精度アライメントカメラにより高い合せ精度を有しています。

    設置面積

    当社比で設置面積1/2を実現。マスク露光機からの容易な置き換えが可能です。

    生産性

    高速データ転送技術により、高解像度領域でも1パネル60秒以下のタクトタイムを有しています。

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